레이저 청소 기계의 3가지 청소 방법

번호 검색 :0     저자 :여름     게시: 2021-09-23      원산지 :강화 된

레이저 클리닝 기술 무힘, 무화학반응, 무열효과 등의 세정특성을 가지며 다양한 소재에 적합하여 가장 신뢰성 있고 효과적인 표면처리 기술로 평가받고 있습니다.그러나 레이저 세척 공정은 다양한 재료 제거 메커니즘을 포함하여 매우 복잡합니다.이는 주로 절제, 분해, 이온화, 품질 저하, 용융, 연소, 기화, 진동, 튀김 및 재료 표면의 기타 여러 물리적, 화학적 변화를 포함하여 레이저와 재료 사이의 상호 작용으로 인해 발생합니다.현재 레이저 세척 방법에는 주로 레이저 절제 세척 방법, 액체 보조 레이저 세척 방법, 레이저 충격파 세척 방법의 세 가지가 있습니다.


1. 레이저 어블레이션 클리닝 방법

레이저 어블레이션 클리닝 방법의 주요 메커니즘에는 그림 1과 같이 증발, 연기, 이온화 ​​및 폭발이 포함됩니다. 이는 레이저가 기판 표면에서 제거할 재료에 직접 작용하며 환경 조건이 공기일 수 있음을 의미합니다. , 불활성 가스 또는 진공.소재 표면에 레이저를 조사하면 기판과 세정 소재가 모두 열팽창합니다.레이저가 청소 재료와 상호 작용하는 시간이 증가함에 따라 온도가 청소 재료의 가스화 임계값보다 낮으면 청소 재료는 물리적으로만 변합니다.세정재와 기판의 열팽창계수 차이로 인해 계면에 압력이 발생하여 세정재에 균열이 발생하게 되어 세정재가 기판 표면에서 제거되거나 벗겨지는 현상이 발생하게 됩니다.온도가 세척 재료의 기화 임계값보다 높으면 이때 두 가지 상황이 발생합니다. 세척 재료의 절제 임계값이 기판 절제 임계값보다 낮을 때 레이저 에너지 밀도는 세척 사이에 있도록 조정되어야 합니다. 재료 및 기판 절제 임계값.이러한 방식으로, 기판에 손상을 주지 않고 세정 물질을 효과적으로 제거할 수 있다.

그림 1

2. 액체 보조 레이저 세척 방법

재료를 제거하기 위한 액체 보조 레이저 세척 메커니즘에는 그림 2와 같이 주로 액체 진동, 비등 및 폭발이 포함됩니다. 이는 세척 재료의 표면을 액체(물, 알코올 또는 기타 액체)로 미리 덮은 다음 레이저로 조사하는 것입니다.액체 필름은 레이저 에너지를 흡수하여 액체 매질의 강력한 폭발을 일으킵니다.폭발적으로 끓는 액체는 고속으로 이동하며 에너지를 표면 세척제에 전달합니다.폭발력은 청소 목적을 달성하기 위해 표면 먼지를 제거하기에 충분합니다.

그림 2

삼. L아셀 S전당 W거리 C경향 M방법

레이저 충격파 세정 방식은 가공 방식과 세정 메커니즘이 앞선 두 가지와 매우 다르다.기판과 접촉하지 않습니다.그림 3과 같이 공작물이나 레이저 헤드를 이동하여 레이저 초점을 입자 근처로 조정합니다.그런 다음 레이저는 기판 표면과 평행한 방향으로 방출됩니다.레이저가 출력된 후 초점의 공기가 이온화되어 충격파가 생성됩니다.충격파는 구형으로 빠르게 확장되어 입자와 접촉하게 됩니다.입자에 작용하는 충격파의 측면 성분의 모멘트가 세로 성분의 모멘트 + 입자 부착력을 초과하면 롤링에 의해 입자가 제거됩니다.

그림 3

위의 세 가지 방법 중 Laser Ablation Cleaning 방법은 작동 조건이 간단하며 가장 널리 사용됩니다.적절한 레이저 유형을 선택하고 최적화된 공정 매개변수를 사용하는 한 모든 종류의 코팅, 페인트, 입자 또는 먼지를 제거할 수 있습니다. 레이저 클리닝 기계 Jinan Senfeng Laser Technology Co., Ltd.에서 생산한 이 세척 방법을 채택하여 세척 효율이 높고 세척 효과가 매우 좋습니다.

액상 필름을 이용한 레이저 클리닝 방법을 사용하는 경우 적절한 레이저 파장 선택을 고려해야 합니다.레이저에 대한 액체 필름의 흡수율이 높을수록 이점은 더욱 분명해집니다.액체 필름 보조 레이저 세척 방법은 레이저 제거 세척 공정에서 충격 압력이 충분하지 않은 문제를 보완할 수 있으며 제거하기 어려운 일부 세척 대상을 제거하는 데 자주 사용됩니다.그러나 이 방법에는 두 가지 단점이 있습니다. 하나는 프로세스가 번거롭고 프로세스를 제어하기 어렵다는 것입니다.다른 하나는 세척 후 기판 표면의 화학적 조성이 쉽게 변경되고 새로운 물질이 생성된다는 것입니다.

레이저 충격파 세척 방법은 주로 입자(미크론 이하 또는 나노 수준)를 제거하는 데 사용됩니다.이 방법에는 매우 엄격한 프로세스 요구 사항이 있습니다.레이저 매개변수가 공기를 이온화할 수 있는지 확인해야 할 뿐만 아니라 입자에 작용하는 충격력이 충분히 커지도록 레이저와 기판 사이의 적절한 거리를 유지해야 합니다.


로서 레이저 클리닝 기계 제조업체, Jinan Senfeng Laser Technology Co., Ltd.는 최고의 레이저 클리닝 기계를 공급합니다.레이저 클리닝 기계에 대해 더 알고 싶으시면 연락주세요 센펭 레이밍.

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